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广东36选7福利彩:JPGF系列鍍膜機

JPGF系列鍍膜機

應用范圍:

適用于鍍制單層膜、合金膜及多層膜

技術特點:

配備DC、RF磁控濺射靶,可實現單靶濺射、DC/RF共濺等工藝模式

描述

應用范圍:

適用于鍍制單層膜、合金膜及多層膜

技術特點:

配備DC、RF磁控濺射靶,可實現單靶濺射、DC/RF共濺等工藝模式

主要技術參數:

型號

參數

JPGF-400 JPGF-450 JPGF-700
濺射室尺寸(內徑×高度) Φ400×250 Φ450×270 Φ700×350
濺射方向 由下往上(或由上往下)
真空室頂蓋提升 電動
極限壓力/Pa 8×10-5
抽氣時間/min 從1×105?Pa至2×10-3Pa≤20
濺射工作壓力/Pa 10?~10-1
真空系統 分子泵系統?氣動閥門
濺射靶尺寸/mm Φ60 Φ80 Φ100或Φ150
濺射靶數量/套 3
濺射靶電源 射頻 功率/W 500 1000 1000
數量/套 1
直流 功率/W 1000 2000 4000
數量/套 1
工件旋轉/r·min-1 5?~?25
工件盤直徑/mm Φ350 Φ400 Φ600
烘烤溫度/℃ 室溫~?300℃?(可調)
工藝氣體控制方式 一套質量流量控制器,一套自動壓強儀
冷卻水流量/L·min-1 ~?15 ~?20
水壓/kPa ≤25
進水溫度/℃ ~?2.5×105
壓縮空氣/kPa (5?~?8)×105
用電功率/kW 9 10 20
占地面積/mm 2000×1800×1900 2000×1800×1900 2000×2000×2100

聯系信息

北京市大興工業開發區高米店 盛坊路儀器儀表基地

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